Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://elib.belstu.by/handle/123456789/12186
Название: Влияние параметров ионно-ассистируемого осаждения на формирование Me/Si-структур
Авторы: Бобрович, Олег Георгиевич
Ташлыков, Игорь Серафимович
Тульев, Валентин Валентинович
Ключевые слова: ионно-ассистируемое нанесение
ионно-ассистируемое осаждение
металлические покрытия
резерфордовское обратное рассеяние
Дата публикации: 2014
Издательство: БГТУ
Библиографическое описание: Бобрович, О. Г. Влияние параметров ионно-ассистируемого осаждения на формирование Me/Si-структур / О. Г. Бобрович, И. С. Ташлыков, В. В. Тульев // Труды БГТУ. - Минск : БГТУ, 2014. - № 6 (170). - С. 74-76.
Краткий осмотр (реферат): Методом РОР изучен элементный состав металлических (Co, Mo, W) покрытий, осажденных на (100)Si в условиях ионного (Co+, Mo+, W+ ) ассистирования. Толщина покрытия увеличивается с уменьшением ускоряющего напряжения для ассистирующих ионов Со+, Мо+, W+ от 20 до 7 кВ и зависит как от отношения плотности потока ионов Ji к плотности потока нанесенных атомов JА (Ji / JА), так и типа осаждаемого на Si металла. Установлено, что оптимальное отношение Ji / JА, при котором достигается наибольшая толщина Со и Мо-покрытий составляет 0,06, а для W-покрытия – 0,04.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): https://elib.belstu.by/handle/123456789/12186
Располагается в коллекциях:Труды БГТУ. №6. Физико-математические науки и информатика, 2014

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
13.pdf666.85 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.