Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.belstu.by/handle/123456789/2418
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorТерещенко, Игорь Михайловичru
dc.contributor.authorКравчук, Александр Петровичru
dc.contributor.authorЖукова, И. И.ru
dc.contributor.authorСобачевский, А. С.ru
dc.contributor.authorВолков, Е. В.ru
dc.date.accessioned2017-02-21T09:03:35Z-
dc.date.available2017-02-21T09:03:35Z-
dc.date.issued2011-
dc.identifier.citationФлюсы для рельефного декорирования керамических облицовочных плиток / И. М. Терещенко [и др.] // Труды БГТУ. №3. Химия и технология неорганических веществ, 2011. - С. 130-133.-
dc.identifier.urihttps://elib.belstu.by/handle/123456789/2418-
dc.description.abstractВ настоящей работе изложена сущность новой вариации метода рельефного декорирования керамических плиток. На основании изучения структуры поверхности промышленных объемнодекорированных плиток методами микрозондового анализа и электронной микроскопии, а также предварительно проведенных экспериментов, сформулированы требования к составам и свойствам реакционных флюсов, осуществлен синтез флюсов в лабораторных условиях на основе системы PbO – B2O3 – SiO2 с добавками. Полученные составы химически устойчивых реакционных флюсов адаптированы к свойствам промышленных глазурей, используемых для декорирования керамических плиток и обеспечивают глубину рельефа, получаемого на плитках, до 80–85 мкм.-
dc.format.mimetypeapplication/pdfen
dc.language.isoruen
dc.publisherБГТУru
dc.subjectкерамические плиткиru
dc.subjectреакционные флюсыru
dc.subjectрельефное декорированиеru
dc.titleФлюсы для рельефного декорирования керамических облицовочных плитокru
dc.typeArticleen
dc.identifier.udc666.291.9-
Appears in Collections:Труды БГТУ. №3. Химия и технология неорганических веществ, 2011

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
028tereshhenko-i.-m.-kravchuk-a.-p.-zhukova-i.-i.-sobachevskii--a.-s.--volkov--e.--v..pdf819.33 kBAdobe PDFView/Open



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.