Применение ионной имплантации при создании переходных слоев комбинированных анодов

Abstract

При разработке эффективных анодных материалов для процессов получения неорганических продуктов, особое внимание уделяется комбинированным многослойным анодным материалам. Как правило, такие материалы содержат платиновые металлы. Одна из основных проблем комбинированных анодов - образование барьеров на границе основа-активное покрытие, особенно в случаях окис­ления титановой основы с образованием полупроводникового оксида n-типа TiO[x]. C целью интенсификации процессов переноса заряда в системе титан-оксиднотитановая пленка-активное покрытие авторами были изготовле­ны комбинированные аноды, состоящие из титановой основы, на поверх­ности которой сформированы оксидные пленки (термические и электрохимические) различной толщины, легированные по всей толщине (по дан­ным спектроскопии резерфордовского обратного рассеяния) платиной или палладием. Активным покрытием анода являлся диоксид марганца, полученный с помощью пиролиза соответствующего нитрата.