Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.belstu.by/handle/123456789/26640
Full metadata record
DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.author | Тульев, Валентин Валентинович | ru |
dc.date.accessioned | 2018-11-12T07:30:00Z | - |
dc.date.available | 2018-11-12T07:30:00Z | - |
dc.date.issued | 2018 | - |
dc.identifier.citation | Тульев, В. В. Изучение поверхности структур металл - титан, полученных ионно-ассистируемым нанесением металлсодержащих покрытий / В. В. Тульев // Труды БГТУ. Сер. 3, Физико-математические науки и информатика. - Минск : БГТУ, 2018. - № 2 (212). - С. 67-70. | ru |
dc.identifier.uri | https://elib.belstu.by/handle/123456789/26640 | - |
dc.description.abstract | На подложки из титана наносились тонкие металлсодержащие (Cr, Cu, Mo, W) пленки методом ионно-ассистируемого осаждения в вакууме. Этот метод позволяет осаждать покрытие на поверхность образца и одновременно облучать ускоренными ионами того же вида, что и материал наносимого покрытия. Для реализации данного метода использовался вакуумный ионно-дуговой источник плазмы металлов, который одновременно генерирует положительные ионы и нейтральную фракцию из материала электродов. Облучение осаждаемого покрытия осуществлялось при ускоряющем напряжении между источником и мишенью, равном 20 кВ. Плотность ионного тока составляла ∼6−20 мкА/см2, а интегральный поток ассистирующих ионов (1−2) ⋅ 1017 ион/см2. В рабочей камере в процессе осаждения покрытий поддерживался вакуум при давлении ~10−2 Па. Элементный состав и распределение элементов по глубине в сформированных на титане покрытиях изучались методом резерфордовского обратного рассеяния ионов гелия в сочетании с компьютерным моделированием. Исследования показали, что на поверхности титана формируется покрытие толщиной ∼25 нм, в состав которого входят атомы осаждаемого материала (2–8 ат. %), атомы технологической примеси кислорода (10–25 ат. %) и атомы титана из подложки. Установлено, что проникновение атомов металла и кислорода в титановую подложку происходит в результате радиационно-стимулированной диффузии, а атомов титана в покрытие – вследствие встречной диффузии. На процессы формирования покрытия влияет также распыление поверхности формируемой структуры. | ru |
dc.format.mimetype | application/pdf | ru |
dc.publisher | БГТУ | ru |
dc.subject | нанесение покрытий | ru |
dc.subject | ионно-ассистируемое осаждение | ru |
dc.subject | титан | ru |
dc.subject | металлсодержащие пленки | ru |
dc.subject | элементный состав | ru |
dc.subject | хром | ru |
dc.subject | медь | ru |
dc.subject | молибден | ru |
dc.subject | вольфрам | ru |
dc.subject | резерфордовское обратное рассеяние | ru |
dc.subject | ионы гелия | ru |
dc.subject | компьютерное моделирование | ru |
dc.subject | радиационно-стимулированная диффузия | ru |
dc.subject | встречная диффузия | ru |
dc.title | Изучение поверхности структур металл - титан, полученных ионно-ассистируемым нанесением металлсодержащих покрытий | ru |
dc.type | Article | en |
dc.identifier.udc | 539.1.06:539.23.234 | - |
Appears in Collections: | выпуск журнала постатейно |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
Tul'ev_Izuchenie.pdf | 288.45 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.