Влияние ионно-ассистируемого осаждения металлсодержащих покрытий на содержание водорода в Cr/Si, Ti/Si и Zr/Si-структурах

Abstract

В данной работе обсуждаются экспериментальные результаты по изучению распределения водорода в приповерхностных слоях Cr/Si-, Ti/Si- и Zr/Si-структур, сформированных ионно-ассистируемым осаждением в вакууме. Этот метод заключается в осаждении покрытия на подложку при одновременном облучении формируемой структуры ускоренными ионами материала покрытия. Установлено, что при ионно-ассистируемом нанесении металлсодержащих (Cr, Ti и Zr) покрытий на кремний формируются поверхностные структуры толщиной ∼100−400 нм в зависимости от времени осаждения.