Распределение элементов по глубине в структурах Me/Ti, полученных ионно-ассистируемым осаждением

Abstract

Метод ионно-ассистируемого осаждения покрытий в вакууме являются перспективным методом модифицирования состава и свойств поверхности материалов и изделий. Он позволяет при осаждении пленки облучать поверхность формируемой структуры ускоренными ионами. При таком нанесении покрытий происходит перемешивание атомов поверхностного слоя мишени с атомами осаждаемого покрытия, в результате чего формируется покрытие с высокой степенью адгезии к подложке. В процессе осаждения покрытия в поверхностных слоях подложки происходит изменение композиционного состава и структурно-фазового состояния, что приводит к изменению свойств поверхности.