Элементный состав и микротвердость структур Mo-W/Al, Ti-Mo-W/Al, сформированных последовательным осаждением покрытий

Abstract

На алюминий последовательно наносились покрытия на основе W, Mo и Ti методом ионно-ассистированного осаждения в условиях саморадиации. С помощью резерфордовского обратного рассеяния ионов гелия в сочетании с компьютерным моделированием проводился послойный элементный анализ полученных структур. Установлено, что в сформированные структуры входят, кроме атомов основы покрытия, Ме (5 ат. %), атомы кислорода (15–20 ат. %), углерода (60–70 ат. %) и атомы материала подложки железа (6–8 ат. %). Обсуждены причины, приводящие к формированию сложного композиционного состава и изменению микротвердости полученных структур.