Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.belstu.by/handle/123456789/49010
Full metadata record
DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.author | Липпинг, Я. А. | - |
dc.contributor.author | Касач, Александр Александрович | - |
dc.contributor.author | Пянко, Анна Владимировна | - |
dc.contributor.author | Черник, Александр Александрович | - |
dc.date.accessioned | 2022-06-23T13:02:45Z | - |
dc.date.available | 2022-06-23T13:02:45Z | - |
dc.date.issued | 2022 | - |
dc.identifier.citation | Электрохимическое осаждение сплавов Sn-Ni, модифицированных наночастицами TiO[2] и WO[3] / Я. А. Липпинг [и др.] // Инновационные материалы и технологии - 2022 : материалы Международной научно-технической конференции молодых ученых, Минск, 23-24 марта 2022 г. - Минск : БГТУ, 2022. – С. 328-329. | ru |
dc.identifier.uri | https://elib.belstu.by/handle/123456789/49010 | - |
dc.description.abstract | Проведены исследования, которые позволили установить влияние добавок наночастиц TiO[2], WO[3] в фторидно-хлоридном электролите осаждения сплава на состав и структуру формируемых электрохимических композиционных покрытий Sn-Ni-TiO[2] и Sn-Ni-WO[3]. | ru |
dc.format.mimetype | application/pdf | ru |
dc.language.iso | ru | ru |
dc.publisher | БГТУ | ru |
dc.subject | сплавы олово-никель | ru |
dc.subject | электроосаждение | ru |
dc.subject | модифицированные наночастицы | ru |
dc.subject | электрохимическое осаждение | ru |
dc.subject | композиционные покрытия | ru |
dc.subject | фторидно-хлоридные электролиты | ru |
dc.title | Электрохимическое осаждение сплавов Sn-Ni, модифицированных наночастицами TiO[2] и WO[3] | ru |
dc.type | Article | ru |
dc.identifier.udc | 541.124:542.952.6:547.313 | - |
Appears in Collections: | материалы конференции постатейно |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
Липпинг_Электрохимическое.pdf | 115.84 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.