Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.belstu.by/handle/123456789/49217
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorКрутько, Эльвира Тихоновна-
dc.contributor.authorДроздова, Д. А.-
dc.contributor.authorПрокопчук, Николай Романович-
dc.contributor.authorАбади, Марк Ж.-
dc.date.accessioned2022-07-07T12:21:02Z-
dc.date.available2022-07-07T12:21:02Z-
dc.date.issued2000-
dc.identifier.citationФоточувствительные полиимидные материалы - основа новых технологий / Э. Т. Крутько [и др.] // Труды Белорусского государственного технологического университета. Серия 4. Химия и технология органических веществ, 2000. - С. 53-63. - Библиогр.: 23 назв.ru
dc.identifier.urihttps://elib.belstu.by/handle/123456789/49217-
dc.description.abstractИсследования показали перспективность создания фоторезистивных материалов с применением акриламидных и акрилатных производных ПАК для различных областей использования в новых технологиях.ru
dc.format.mimetypeapplication/pdfru
dc.language.isoruru
dc.publisherБГТУru
dc.subjectкомпозиционные материалыru
dc.subjectполиимидные материалыru
dc.subjectфоточувствительные материалыru
dc.subjectсинтезированные форполимерыru
dc.subjectфоторезистивные материалыru
dc.titleФоточувствительные полиимидные материалы - основа новых технологийru
dc.typeArticleru
dc.identifier.udc66.095.265-
Appears in Collections:Труды БГТУ. Серия 4. Химия и технология органических веществ, 2000




Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.