Синтез легкоплавких стекол с низким ТКЛР для микроэлектроники

Abstract

В данной работе изучены условия стеклообраэования системы PbO-ZnO-B[2]O[3]-SiO[2]„. На диаграмму системы нанесены изотермы стеклообразовакия 1400° и установлено влияние химсостава на этот процесс. Показано, что с увеличением окиси свинца от 10 до 50 мол. % граница стеклообраэования значительно расширяется. Изучена кристаллизационная способность опытных стекол. Установлено, что в данной системе есть области прозрачных некристаллизующихся стекол. Устойчивость стекол против кристаллизации зависит от химсостава, а именно - от природы окисла двухвалентного металла.