Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.belstu.by/handle/123456789/57900
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorКурмашев, Виктор Иванович-
dc.contributor.authorПетрович, В. А.-
dc.date.accessioned2023-06-29T05:29:54Z-
dc.date.available2023-06-29T05:29:54Z-
dc.date.issued1980-
dc.identifier.citationКурмашев, В. И. Влияние плотности тока на электрокристаллизацию рения / В. И. Курмашев, В. А. Петрович // Химия и химическая технология : республиканский межведомственный сборник. – Минск : Вышэйшая школа, 1980. – Вып. 15. – С. 36-40.ru
dc.identifier.urihttps://elib.belstu.by/handle/123456789/57900-
dc.description.abstractИсследовано влияние плотности тока на процесс электрокристаллизации рения на полупроводниковой подложке КЭФ-0,02. Показано, что процесс зародышеобразования носит сложный характер, а структура осадка существенным образом зависит от плотности тока, что связано с различным вкладом пассивационных процессов и различием в механизме электрокристаллизации при изменении плотности тока.ru
dc.format.mimetypeapplication/pdfru
dc.language.isoruru
dc.subjectренийru
dc.subjectэлектрокристаллизация ренияru
dc.subjectплотность токаru
dc.subjectзародышеобразование ренияru
dc.titleВлияние плотности тока на электрокристаллизацию ренияru
dc.typeArticleru
dc.identifier.udc621.357.74-
Appears in Collections:Химия и химическая технология : республиканский межведомственный сборник. Вып. 15 / Белорусский технологический институт им. С. М. Кирова. - Минск : Вышэйшая школа, 1980. - 149 с.

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Курмашев_Влияние.pdf3.18 MBAdobe PDFView/Open



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.