Особенности формирования легированных слоев на поверхности вентильных металлов в процессе ионно-ассистируемого осаждения металлов из плазмы вакуумного дугового разряда

Abstract

При ионно-ассистируемом осаждении металлов из плазмы вакуумного дугового разряда на поверхность вентильных металлов (Al, Ti, Ta) получены многокомпонентные аморфные слои толщиной ~30–50 нм, включающие атомы осажденных металлов, компоненты материала подложки, включая кислород поверхностной оксидной пленки, а также молекулы углеводородов в качестве примесей. Причем значительные количества газов включаются в состав формируемых слоев при осаждении металлов, обладающих геттерными свойствами. Процесс формирования слоев отличается одностадийностью, экономичностью и позволяет повышать коррозионную устойчивость и обеспечивать каталитическую активность материалов.