Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://elib.belstu.by/handle/123456789/45120
Название: Фоторезистивные материалы на основе полиимидов
Авторы: Глоба, Иван Иванович
Крутько, Эльвира Тихоновна
Прокопчук, Николай Романович
Ключевые слова: полиимиды
фоторезистивные материалы
полимеры
фоторезисты
полиамидокислоты
Дата публикации: 2002
Библиографическое описание: Глоба, И. И. Фоторезистивные материалы на основе полиимидов / И. И. Глоба, Э. Т. Крутько, Н. Р. Прокопчук // Труды Белорусского государственного технологического университета. Серия 4. Химия и технология органических веществ, 2002. - С. 109-114.
Краткий осмотр (реферат): Приведен аналитический обзор литературы по получению термостойких фоторезистивных материалов на основе полиимидов. Установлены направления перспективных исследований в этой области.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): https://elib.belstu.by/handle/123456789/45120
Располагается в коллекциях:Труды БГТУ. Серия 4. Химия и технология органических веществ, 2002

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Глоба_Фоторезистивные.pdf396.51 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.