1. Электронная библиотека БГТУ
  2. Статьи ученых БГТУ
  3. Статьи в республиканских изданиях
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://elib.belstu.by/handle/123456789/50756
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorГлоба, Иван Иванович-
dc.contributor.authorПрокопчук, Николай Романович-
dc.date.accessioned2022-10-05T11:43:42Z-
dc.date.available2022-10-05T11:43:42Z-
dc.date.issued1999-
dc.identifier.citationГлоба, И. И. Позитивно-негативные фоторезисты в технологии литографии / И. И. Глоба, Н. Р. Прокопчук // Разработка импортозамещающих технологий и материалов в химической промышленности : материалы международной научно-технической конференции, Минск, 20-22 октября 1999 г. - Минск : БГТУ, 1999. - С. 119-121ru
dc.identifier.urihttps://elib.belstu.by/handle/123456789/50756-
dc.description.abstractДанная работа направлена на разработку высокотехнологичного позитивно-негативного фоторезиста, позволяющего в широких пределах варьировать толщину фоторезистивных масок, не требующего дополнительного технологического оборудования и дающего возможность управлять, при необходимости, формой профиля проявленного рельефа, а также термостойкость получаемых фоторезистивных масок.ru
dc.format.mimetypeapplication/pdfru
dc.language.isoruru
dc.subjectпозитивно-негативные фоторезистыru
dc.subjectмикроэлектроникаru
dc.subjectинверсная фотолитографияru
dc.subjectинверсное изображениеru
dc.subjectфоторезистивные маскиru
dc.subjectсветочувствительные композицииru
dc.subjectлитографияru
dc.titleПозитивно-негативные фоторезисты в технологии литографииru
dc.typeArticleru
dc.identifier.udc621.3.049.77-
Располагается в коллекциях:Статьи в республиканских изданиях

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Глоба. Позитивно-негативные.pdf172.83 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.