Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.belstu.by/handle/123456789/50756
Full metadata record
DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.author | Глоба, Иван Иванович | - |
dc.contributor.author | Прокопчук, Николай Романович | - |
dc.date.accessioned | 2022-10-05T11:43:42Z | - |
dc.date.available | 2022-10-05T11:43:42Z | - |
dc.date.issued | 1999 | - |
dc.identifier.citation | Глоба, И. И. Позитивно-негативные фоторезисты в технологии литографии / И. И. Глоба, Н. Р. Прокопчук // Разработка импортозамещающих технологий и материалов в химической промышленности : материалы международной научно-технической конференции, Минск, 20-22 октября 1999 г. - Минск : БГТУ, 1999. - С. 119-121 | ru |
dc.identifier.uri | https://elib.belstu.by/handle/123456789/50756 | - |
dc.description.abstract | Данная работа направлена на разработку высокотехнологичного позитивно-негативного фоторезиста, позволяющего в широких пределах варьировать толщину фоторезистивных масок, не требующего дополнительного технологического оборудования и дающего возможность управлять, при необходимости, формой профиля проявленного рельефа, а также термостойкость получаемых фоторезистивных масок. | ru |
dc.format.mimetype | application/pdf | ru |
dc.language.iso | ru | ru |
dc.subject | позитивно-негативные фоторезисты | ru |
dc.subject | микроэлектроника | ru |
dc.subject | инверсная фотолитография | ru |
dc.subject | инверсное изображение | ru |
dc.subject | фоторезистивные маски | ru |
dc.subject | светочувствительные композиции | ru |
dc.subject | литография | ru |
dc.title | Позитивно-негативные фоторезисты в технологии литографии | ru |
dc.type | Article | ru |
dc.identifier.udc | 621.3.049.77 | - |
Appears in Collections: | Статьи в республиканских изданиях |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
Глоба. Позитивно-негативные.pdf | 172.83 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.