Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
https://elib.belstu.by/handle/123456789/50756| Название: | Позитивно-негативные фоторезисты в технологии литографии |
| Авторы: | Глоба, Иван Иванович Прокопчук, Николай Романович |
| Ключевые слова: | позитивно-негативные фоторезисты микроэлектроника инверсная фотолитография инверсное изображение фоторезистивные маски светочувствительные композиции литография |
| Дата публикации: | 1999 |
| Библиографическое описание: | Глоба, И. И. Позитивно-негативные фоторезисты в технологии литографии / И. И. Глоба, Н. Р. Прокопчук // Разработка импортозамещающих технологий и материалов в химической промышленности : материалы международной научно-технической конференции, Минск, 20-22 октября 1999 г. - Минск : БГТУ, 1999. - С. 119-121 |
| Краткий осмотр (реферат): | Данная работа направлена на разработку высокотехнологичного позитивно-негативного фоторезиста, позволяющего в широких пределах варьировать толщину фоторезистивных масок, не требующего дополнительного технологического оборудования и дающего возможность управлять, при необходимости, формой профиля проявленного рельефа, а также термостойкость получаемых фоторезистивных масок. |
| URI (Унифицированный идентификатор ресурса): | https://elib.belstu.by/handle/123456789/50756 |
| Располагается в коллекциях: | Статьи в республиканских изданиях |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| Глоба. Позитивно-негативные.pdf | 172.83 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.