Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.belstu.by/handle/123456789/50756| Title: | Позитивно-негативные фоторезисты в технологии литографии |
| Authors: | Глоба, Иван Иванович Прокопчук, Николай Романович |
| Keywords: | позитивно-негативные фоторезисты микроэлектроника инверсная фотолитография инверсное изображение фоторезистивные маски светочувствительные композиции литография |
| Issue Date: | 1999 |
| Citation: | Глоба, И. И. Позитивно-негативные фоторезисты в технологии литографии / И. И. Глоба, Н. Р. Прокопчук // Разработка импортозамещающих технологий и материалов в химической промышленности : материалы международной научно-технической конференции, Минск, 20-22 октября 1999 г. - Минск : БГТУ, 1999. - С. 119-121 |
| Abstract: | Данная работа направлена на разработку высокотехнологичного позитивно-негативного фоторезиста, позволяющего в широких пределах варьировать толщину фоторезистивных масок, не требующего дополнительного технологического оборудования и дающего возможность управлять, при необходимости, формой профиля проявленного рельефа, а также термостойкость получаемых фоторезистивных масок. |
| URI: | https://elib.belstu.by/handle/123456789/50756 |
| Appears in Collections: | Публикации в республиканских изданиях |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Глоба. Позитивно-негативные.pdf | 172.83 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.