Изучение поверхности структур металл/кремний, полученных ионно-ассистируемым осаждением покрытий в вакууме

Abstract

Методом ионно-ассистируемого осаждения получены Ti/Si, Zr/Si и Mо/Si-структуры. Исследования поверхности Me/Si-структур, полученных ионно-ассистируемым осаждением металлсодержащих покрытий, с примене-нием методов резерфордовского обратного рассеяния ионов гелия в со-четании с моделирование RUMP и резонансных ядерных реакций, по-казали, что сформированные структуры содержат атомы осажденного металла (5‒10 ат. %), атомы кремния из подложки (10‒15 ат. %) и атомы технологических примесей: водорода (3‒15 ат. %), углерода (20‒25 ат. %) и кислорода (10‒15 ат. %). Источником технологических примесей является летучая фракция углеводородов вакуумного масла диффузионного паромасляного насоса.