Please use this identifier to cite or link to this item: http://elib.belstu.by/handle/123456789/12186
Title: Влияние параметров ионно-ассистируемого осаждения на формирование Me/Si-структур
Authors: Бобрович, Олег Георгиевич
Ташлыков, Игорь Серафимович
Тульев, Валентин Валентинович
Keywords: ионно-ассистируемое нанесение
ионно-ассистируемое осаждение
металлические покрытия
резерфордовское обратное рассеяние
Issue Date: 2014
Publisher: БГТУ
Citation: Бобрович, О. Г. Влияние параметров ионно-ассистируемого осаждения на формирование Me/Si-структур / О. Г. Бобрович, И. С. Ташлыков, В. В. Тульев // Труды БГТУ. - Минск : БГТУ, 2014. - № 6 (170). - С. 74-76.
Description: Методом РОР изучен элементный состав металлических (Co, Mo, W) покрытий, осажденных на (100)Si в условиях ионного (Co+, Mo+, W+ ) ассистирования. Толщина покрытия увеличивается с уменьшением ускоряющего напряжения для ассистирующих ионов Со+, Мо+, W+ от 20 до 7 кВ и зависит как от отношения плотности потока ионов Ji к плотности потока нанесенных атомов JА (Ji / JА), так и типа осаждаемого на Si металла. Установлено, что оптимальное отношение Ji / JА, при котором достигается наибольшая толщина Со и Мо-покрытий составляет 0,06, а для W-покрытия – 0,04.
URI: http://elib.belstu.by/handle/123456789/12186
Appears in Collections:2014, № 6

Files in This Item:
File SizeFormat 
13.pdf666.85 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.