Методы атомно-силовой микроскопии и профилометрии в исследовании фрактальной неоднородности запечатываемых поверхностей

Abstract

В статье представлен сравнительный анализ методов атомно-силовой микроскопии и профилометрии в исследовании фрактальной неоднородности запечатываемых материалов. С помощью сканирующего зондового микроскопа Solver HV, работающего в полуконтактном режиме, и профилометра-профилографа Hommel Tester T1000 получены профилограммы рельефа поверхности образцов бумаги. В качестве объекта исследования выступали четыре образца бумаги с различным композиционным составом. Приведены параметры шероховатости поверхности образцов бумаги, полученные с помощью атомно-силового микроскопа и профилометра, а также рассчитаны фрактальные размерности структуры бумаги. Применяемые методы исследования позволяют в равной мере использовать их для оценки стохастической структуры запечатываемых поверхностей, хотя метод атомно-силовой микроскопии является более точным, в то время как профилометр передает только общий контур рельефа. При использовании атомно-силовой микроскопии более точные результаты обеспечивает топографическое изображение поверхности образцов бумаги для кадра 3500 нм. Применяемые подходы позволяют учесть вклад структуры материала в распределение красочного слоя, что в конечном итоге окажет влияние на качество печатной продукции