Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://elib.belstu.by/handle/123456789/21579
Название: Влияние толщины активного нанослоя на температурную зависимость порогового тока инжекционных лазеров на основе ассиметричных AlGaAs/InGaAs/GaAs–гетероструктур
Авторы: Махсудов, Б. И.
Джураев, Х. Ш.
Каримов, З.
Ключевые слова: полупроводниковые лазеры
инжекционные лазеры
лазерные гетероструктуры
нанотехнологии
температурная зависимость
пороговый ток лазера
Дата публикации: 2017
Издательство: БГТУ
Библиографическое описание: Махсудов, Б. И. Влияние толщины активного нанослоя на температурную зависимость порогового тока инжекционных лазеров на основе ассиметричных AlGaAs/InGaAs/GaAs–гетероструктур / Б. И. Махсудов, Х. Ш. Джураев, З. Каримов // Физико-математические науки : тезисы докладов 81-й научно-технической конференции профессорско-преподавательского состава, научных сотрудников и аспирантов (с международным участием), Минск, 1-12 февраля 2017 г. / Белорусский государственный технологический университет. - Минск : БГТУ, 2017. - С. 59-61.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): https://elib.belstu.by/handle/123456789/21579
Располагается в коллекциях:Физико-математические науки

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Mahsudov_59-61.pdf141.24 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.