Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.belstu.by/handle/123456789/26640
Title: | Изучение поверхности структур металл - титан, полученных ионно-ассистируемым нанесением металлсодержащих покрытий |
Authors: | Тульев, Валентин Валентинович |
Keywords: | нанесение покрытий ионно-ассистируемое осаждение титан металлсодержащие пленки элементный состав хром медь молибден вольфрам резерфордовское обратное рассеяние ионы гелия компьютерное моделирование радиационно-стимулированная диффузия встречная диффузия |
Issue Date: | 2018 |
Publisher: | БГТУ |
Citation: | Тульев, В. В. Изучение поверхности структур металл - титан, полученных ионно-ассистируемым нанесением металлсодержащих покрытий / В. В. Тульев // Труды БГТУ. Сер. 3, Физико-математические науки и информатика. - Минск : БГТУ, 2018. - № 2 (212). - С. 67-70. |
Abstract: | На подложки из титана наносились тонкие металлсодержащие (Cr, Cu, Mo, W) пленки методом ионно-ассистируемого осаждения в вакууме. Этот метод позволяет осаждать покрытие на поверхность образца и одновременно облучать ускоренными ионами того же вида, что и материал наносимого покрытия. Для реализации данного метода использовался вакуумный ионно-дуговой источник плазмы металлов, который одновременно генерирует положительные ионы и нейтральную фракцию из материала электродов. Облучение осаждаемого покрытия осуществлялось при ускоряющем напряжении между источником и мишенью, равном 20 кВ. Плотность ионного тока составляла ∼6−20 мкА/см2, а интегральный поток ассистирующих ионов (1−2) ⋅ 1017 ион/см2. В рабочей камере в процессе осаждения покрытий поддерживался вакуум при давлении ~10−2 Па. Элементный состав и распределение элементов по глубине в сформированных на титане покрытиях изучались методом резерфордовского обратного рассеяния ионов гелия в сочетании с компьютерным моделированием. Исследования показали, что на поверхности титана формируется покрытие толщиной ∼25 нм, в состав которого входят атомы осаждаемого материала (2–8 ат. %), атомы технологической примеси кислорода (10–25 ат. %) и атомы титана из подложки. Установлено, что проникновение атомов металла и кислорода в титановую подложку происходит в результате радиационно-стимулированной диффузии, а атомов титана в покрытие – вследствие встречной диффузии. На процессы формирования покрытия влияет также распыление поверхности формируемой структуры. |
URI: | https://elib.belstu.by/handle/123456789/26640 |
Appears in Collections: | выпуск журнала постатейно |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
Tul'ev_Izuchenie.pdf | 288.45 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.