Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://elib.belstu.by/handle/123456789/33289
Название: Влияние ионно-ассистируемого осаждения на содержание водорода в структурах Me/Si
Авторы: Тульев, Валентин Валентинович
Ключевые слова: приповерхностные слои
ионно-ассистируемое осаждение
водород
метод резерфордовского обратного рассеяния
метод РОР
концентрации водорода
структуры Ме/Si
Дата публикации: 2020
Издательство: БГТУ
Библиографическое описание: Тульев, В. В. Влияние ионно-ассистируемого осаждения на содержание водорода в структурах Me/Si / В. В. Тульев // Информационные технологии : материалы докладов 84-й научно-технической конференции, посвященной 90-летнему юбилею БГТУ и Дню белорусской науки (с международным участием), Минск, 03-14 февраля 2020 г. - Минск : БГТУ, 2020. – С. 238-240.
Краткий осмотр (реферат): В работе обсуждаются экспериментальные результаты по изучению приповерхностных слоев структур Ме/Si, сформированных методом ионно-ассистируемого осаждения в вакууме. В качестве подложки использовался образцы из кремния, на которые наносились металлсодержащие покрытие на основе Cr, Ti, Zr.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): https://elib.belstu.by/handle/123456789/33289
Располагается в коллекциях:Информационные технологии

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Tul'ev_Vliyanie_ionno.pdf185.21 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.