Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://elib.belstu.by/handle/123456789/36115
Название: Application of DC Magnetron Sputtering for Creation of Gas-Sensitive Indium Oxide Thin Films and Their Properties
Авторы: Luhin, V.
Zarsky, I.
Zhucowki, P.
Ключевые слова: technology
gas sensitive semiconductor structures
oxide thin films
sputtering of indium
magnetron sputtering
by magnetron
Дата публикации: 2012
Библиографическое описание: Application of DC Magnetron Sputtering for Creation of Gas-Sensitive Indium Oxide Thin Films and Their Properties / V. Luhin, I. Zarsky, P. Zhucowki // Acta Physica Polonica A. - 2012. - Vol. 123, № 5. - P. 837-839
Краткий осмотр (реферат): In this paper the technology of gas sensitive semiconductor structures based on oxide thin films by DC magnetron sputtering of indium with the subsequent thermal oxidation is developed. Structure, surface morphology and chemical composition of the obtained films have been investigated by electron diffraction, scanning electron microscopy, and X-ray photoelectron spectroscopy. Conditions of In₂O₃ films formation with higt selectivity and sensitivity to NO₂ are established.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): https://elib.belstu.by/handle/123456789/36115
Располагается в коллекциях:Публикации в зарубежных изданиях

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
15.pdf464.47 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.