Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.belstu.by/handle/123456789/36720| Title: | Формирование тонких пленок SiOC прямым осаждением из пучков ионов химически активных газов |
| Authors: | Данилевич, Д. С. Телеш, Е. В. |
| Keywords: | реактивный ионно-лучевой синтез синтез тонких пленок формирование тонких пленок SiOС осаждение химически активных газов инновационные технологии тонкие пленки SiOС |
| Issue Date: | 2020 |
| Publisher: | БГТУ |
| Citation: | Данилевич, Д. С. Формирование тонких пленок SiOC прямым осаждением из пучков ионов химически активных газов / Д. С. Данилевич, Е. В. Телеш // Инновационные материалы и технологии - 2020 : материалы Международной научно-технической конференции молодых ученых, Минск, 9-10 января 2020 г. - Минск : БГТУ, 2020. – С. 265-268. |
| Abstract: | Метод реактивного ионно-лучевого синтеза тонких пленок непосредственно из пучков ионов химически активных веществ является одним из перспективных методов нанесения функциональных слоев в микроэлектронике и оптике в связи с рядом принципиальных достоинств по отношению к существующим методам получения тонких пленок в вакууме. Для управления электрофизическими, оптическими и механическими свойствами формируемых слоев необходимо изменять энергию, величину, состав и направленность потока осаждаемых частиц. Такими возможностями обладает метод осаждения пленок из пучков ионов химически активных газов. |
| URI: | https://elib.belstu.by/handle/123456789/36720 |
| Appears in Collections: | Материалы конференции постатейно |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Danilevich_Formirovanie_tonkih.pdf | 287.73 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.