Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
https://elib.belstu.by/handle/123456789/36720| Название: | Формирование тонких пленок SiOC прямым осаждением из пучков ионов химически активных газов |
| Авторы: | Данилевич, Д. С. Телеш, Е. В. |
| Ключевые слова: | реактивный ионно-лучевой синтез синтез тонких пленок формирование тонких пленок SiOС осаждение химически активных газов инновационные технологии тонкие пленки SiOС |
| Дата публикации: | 2020 |
| Издательство: | БГТУ |
| Библиографическое описание: | Данилевич, Д. С. Формирование тонких пленок SiOC прямым осаждением из пучков ионов химически активных газов / Д. С. Данилевич, Е. В. Телеш // Инновационные материалы и технологии - 2020 : материалы Международной научно-технической конференции молодых ученых, Минск, 9-10 января 2020 г. - Минск : БГТУ, 2020. – С. 265-268. |
| Краткий осмотр (реферат): | Метод реактивного ионно-лучевого синтеза тонких пленок непосредственно из пучков ионов химически активных веществ является одним из перспективных методов нанесения функциональных слоев в микроэлектронике и оптике в связи с рядом принципиальных достоинств по отношению к существующим методам получения тонких пленок в вакууме. Для управления электрофизическими, оптическими и механическими свойствами формируемых слоев необходимо изменять энергию, величину, состав и направленность потока осаждаемых частиц. Такими возможностями обладает метод осаждения пленок из пучков ионов химически активных газов. |
| URI (Унифицированный идентификатор ресурса): | https://elib.belstu.by/handle/123456789/36720 |
| Располагается в коллекциях: | Материалы конференции постатейно |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| Danilevich_Formirovanie_tonkih.pdf | 287.73 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.